菲希爾X-RAY XDV-µ SEMI全自動熒光分析儀的詳細資料：

菲希爾X-RAY XDV-µ SEMI全自動熒光分析儀

篤摯儀器（上海）有限公司隨時恭候各領(lǐng)域的用戶與我們聯(lián)絡(luò)，了解并考察篤摯主營高品質(zhì)測試測量儀器設(shè)備的技術(shù)特點和應(yīng)用業(yè)績，上海篤摯將匯集十多年專門從事精密計量和理化檢測業(yè)務(wù)的專業(yè)經(jīng)驗特別是寶貴的實際應(yīng)用經(jīng)驗，根據(jù)您的需求推薦如同量身定做般適合您使用的檢測方案，并直接提供配套的專業(yè)的技術(shù)支持與服務(wù)。

X-RAY XDV-µ SEMI:

FISCHERSCOPE X-RAY XDV-μ SEMI 是一款全自動測量系統(tǒng)。針對半導體行業(yè)復(fù)雜的 2.5D/3D 封裝應(yīng)用中的微結(jié)構(gòu)質(zhì)量控制進行了優(yōu)化。全自動分析可避免損壞寶貴的晶圓材料。此外，統(tǒng)一的測試條件能夠提供可靠的測量結(jié)果。該儀器適用于潔凈室，完備的配置清單使其能夠輕松整合于現(xiàn)有晶圓廠。

        晶圓對所使用的測量技術(shù)提出了*高要求。 首先，必須滿足無塵室條件，以保護昂貴和敏感的零件不受環(huán)境影響。 其次，晶圓上的結(jié)構(gòu)是如此之小，以至于只有特殊的設(shè)備才能對其進行分析。XDV®-μSEMI專為2.5D / 3D封裝應(yīng)用的電子行業(yè)需求量身定制。 它旨在進行微觀結(jié)構(gòu)的全自動分析。 典型的測量任務(wù)包括基本金屬鍍層的表征，焊料塊的材料分析以及接觸表面上的涂層厚度測量。

        為了在不受環(huán)境影響的情況下檢查這些微小的結(jié)構(gòu)，甚至需要較小的測量點。 因此，XDV®-μSEMI配備了現(xiàn)代化的多毛細管光學器件，可將X射線聚焦到僅10或20μm的測量點上。 憑借出色的空間分辨率，XDV®-μSEMI可以對單個微結(jié)構(gòu)進行更準確的表征，而傳統(tǒng)設(shè)備則無法實現(xiàn)。

特性：
        • 全自動晶圓傳輸與測試流程可提高員工的工作效率
        • 能夠針對直徑小至 10 µm 的結(jié)構(gòu)進行準確測試
        • 通過圖像識別功能自動定位待測位置
        • 通過 FISCHER WinFTM 軟件實現(xiàn)簡單操作
        • 離線使用：可隨時進行手動測量
        • 適用廣泛：可適配針對 6"、8" 以及 12" 晶圓的FOUP、SMIF 和 Cassette

應(yīng)用：
        • 鍍層厚度測量
        • 凸點下納米級厚度的金屬化層 (UBM)
        • 銅柱上的無鉛焊料凸點（Solder Bump）
        • 很小的接觸面以及其他復(fù)雜的 2.5D/3D 封裝應(yīng)用
        • 材料分析
        • C4 以及更小的焊接凸點（Solder Bump）
        • 銅柱上的無鉛焊料凸點（Solder Bump）